CMP過濾效率

CMP解決方案在半導體技術高速公路上發(fā)揮著*的作用。它們是高密度集成電路生產中*的步驟相互配合。CMP溶液是由多種組分組成的復雜分散體重要部署。這些膠體系統(tǒng)的生產和穩(wěn)定性非常復雜研究與應用，很難預測的可能性，因此必須在生產過程中去突破，甚至在終裝運之前對它們進行監(jiān)控相關。一些CMP溶液表現出*的行為，受剪切和機械應力的影響開放要求，導致不可逆的結塊高質量。這些低水平的結塊常常在晶圓片生產過程中造成劃傷，有時直到生產很長時間才發(fā)現劃傷緊密相關，給終用戶造成重大經濟損失大幅增加。

在CMP漿料制造和使用的完整產品鏈中，AccuSizer 780已經并將繼續(xù)發(fā)揮重要作用重要組成部分。來自原材料供應商服務延伸、CMP漿料生產商、漿料分銷供應商傳承、過濾器供應商貢獻力量、芯片;PSS和AccuSizer780已經積極地檢測和提供關于好的和壞的泥漿的信息超過10年。

CMP漿料通常作為其生產過程和使用過程的一部分進行過濾具有重要意義。據信前景，通過使用過濾器，可以將在此過程中形成的大顆粒從晶圓漿中去除，這樣晶圓就不會被劃傷進一步。在某些情況下宣講手段，過濾器的使用壽命會受到影響，過濾后會形成大顆粒發行速度，從而導致晶圓上出現缺陷極致用戶體驗。由于沒有一種方法來監(jiān)測和量化大顆粒的尾部，過濾前和過濾后的公司不得不更頻繁地更換過濾器積極拓展新的領域，這浪費了時間和充分發揮。

現在有一些分析方法可以用來檢測在過濾過程中形成的大顆粒團聚體的存在。經典光散射是一種方法深入交流，但它有其局限性解決。當使用經典的光散射粒度儀時，不可能檢測過濾過程是否有效動力，也不可能去除與晶片劃傷直接相關的大塊團聚體的大顆粒尾部不斷豐富。經典光散射以平均平均值和它沒有靈敏度來檢測那些少數的異常值的存在。第二種方法是單粒子光學尺寸法(SPOS)長期間，其中光阻塞被用來計數并對每個粒子逐一測量新的力量。

780既是一個粒子計數器，也是一個采用SPOS方法的高分辨率粒度分析儀是目前主流。這是個全自動的單顆粒分級機分享，提供高分辨率的顆粒大小分布，而不需要任何假設便利性。他的形狀分布開展研究。儀器報告的原始數據是粒子計數與大小。通過簡單的統(tǒng)計信息化，該軟件可以將這些數據點轉換成其他有用的加權分布(體積力量、面積、數量、體積/表面等)方式之一，并提供可追溯到原始數據的統(tǒng)計信息指控者具有檢測oarticle異常值的靈敏度，無論它們的大小或相對較低的計數深刻認識。

AccuSizer 780不僅靈敏度檢測這些大的粒子的粒子存在的主要峰值并遠銷還能量化尾巴提供信息過濾的效率以及它的去除率首要任務。使用AccuSizer來監(jiān)視過濾器增加了它們的壽命，在許多情況下新型儲能，該工具或者在幾個月之內就能獲得回報深入實施。

隨附的圖表清楚地顯示了AccuSizer在CMP泥漿過濾前和過濾后定量和解析尾部大顆粒數量的能力。

紅色顯示的數據顯示了過濾前的CMP泥漿。

CMP漿液過濾后顯示為藍色AccuSizer 780可以有效地監(jiān)測過濾器壽命交流，并具有靈敏度引人註目，地檢測存在的大顆粒聚集，可以造成晶片劃傷溝通協調。Accusizer程序可用于實驗室和在線應用拓展。